Characterization of p-type Doping in Silicon Nanocrystals Embedded in SiO 2 - Normandie Université
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Characterization of p-type Doping in Silicon Nanocrystals Embedded in SiO 2

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Etienne Talbot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://normandie-univ.hal.science/hal-02294165

Soumis le : lundi 23 septembre 2019-11:20:10

Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-13:36:03

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Dates et versions

hal-02294165 , version 1 (23-09-2019)

Identifiants

Citer

Rémi Demoulin, Manuel Roussel, Sébastien Duguay, D. Muller, D. Mathiot, et al.. Characterization of p-type Doping in Silicon Nanocrystals Embedded in SiO 2. Microscopy & Microanalysis 2019, Aug 2019, Portland, United States. pp.2540-2541, ⟨10.1017/S1431927619013436⟩. ⟨hal-02294165⟩

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